레이저 LTB
MNL 100
337.1 nm 초소형·고신뢰성 표준 UV 질소 레이저
자세히 보기
제품 설명
MNL 100 HP 제품특징
MNL 100-HP는 337.1 nm파장대로 표준형의 콤팩트한 외형을 그대로 유지하면서 펄스 에너지(Pulse Energy)를 최대 200µJ까지 획기적으로 높인 모델입니다. 일반 모델 대비 약 1.5배 이상의 강력한 에너지를 방출하여, 높은 광자 밀도가 필요한 정밀 가공이나 고감도 분석에 최적화되었습니다. 타사의 노후된 고출력 레이저를 대체하기 위한 최적의 솔루션입니다.
- 강력한 펄스 에너지: 최대 200µJ의 에너지 출력으로 정밀 재료 가공 및 분석 지원
- 동일한 폼팩터: 표준형(MNL 100)과 크기가 동일해 장비 교체 및 업그레이드 용이
- 높은 피크 파워: 짧은 펄스(3ns) 내에 에너지를 집중시켜 열 손상 없는 어블레이션 구현
- 수명 연장 옵션: Long-Life 버전 선택 시 최대 1억 2,000만 회 이상의 펄스 수명 확보 가능
- 정밀 트리거링: 낮은 지터(Jitter) 값으로 외부 장비와의 정밀한 시간 동기화 지원
MNL 100 HP 어플리케이션
- OEM laser source
- MALDI-TOF mass spectroscopy
- Ion trap mass spectroscopy
- Laser-induced fluorescence spectroscopy (LIF)
- Fluorescence Intensity (FLINT; FI)
- Fluorescence Polarization (FP)
- Fluorescence Resonance Energy Transfer (FRET)
- Homogenous Time Resolved Fluorescence (HTRF)
- Nano-TRF
- Fluorescence Lifetime Analysis (FLA; FLT)
- Pump source for dye lasers
- Amplification of ultra-short laser pulses
- Micro LIBS
- Laser ablation
- Microstructuring
- Dissecting cells under the microscopePulsed laser Photoacoustics
- Laser optoacoustics
- Detector calibration
- Technological applications such as laser-induced bonding, hardening and cleaning
Model
| 항목 (Parameter) | 단위 | 103-HP PD | 106-HP PD | 103-HP LD | 106-HP LD |
|---|---|---|---|---|---|
| Wavelength | nm | 337.1 | 337.1 | 337.1 | 337.1 |
| Spectral bandwidth | nm | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 |
| Guaranteed pulse energy | µJ | ≥ 200 | ≥ 180 | ≥ 130 | ≥ 115 |
| Typ. pulse energy @ pulse qty | µJ @ Mio | 180 @ 100 | 160 @ 100 | 115 @ 100 | 100 @ 100 |
| Pulse halfwidth FWHM, typ. | ns | 3 | 3 | 3 | 3 |
| Pulse power, typ. | kW | 65 | 60 | 43 | 38 |
| Repetition rate | Hz | 1 … 30 | 1 … 60 | 1 … 30 | 1 … 60 |
| Energy stability SD | % | ≤ 2 | ≤ 2 | ≤ 2 | ≤ 2 |
| Beam dimensions (V x H), typ. | mm | 3 x 4 | 3 x 4 | 4 x 2.5 | 4 x 2.5 |
| Beam divergence (V x H) | mrad | ≤ 3.5 x ≤ 3 | ≤ 3.5 x ≤ 3 | ≤ 0.5 x ≤ 0.3 | ≤ 0.5 x ≤ 0.3 |
| Focus stability | µm | < 15 | < 15 | < 25 | < 25 |
| Beam exit angle (V x H), typ. | deg | 0.5(±0.2) x 0±0.1 | 0.5(±0.2) x 0±0.1 | 0±0.1 x 0±0.1 | 0±0.1 x 0±0.1 |
| Trigger In | - | <- Optical | or electrical | (TTL) -> | |
| Jitter: ext. trigger – laser pulse | ns | ± 2.5 | ± 2.5 | ± 2.5 | ± 2.5 |
| Pulse delay: ext. trigger – laser | ns | 1,300 ± 10% | 1,300 ± 10% | 1,300 ± 10% | 1,300 ± 10% |
| Sync Out (optional) | - | <- 3.5 ns | before pulse | (U > 4 V) -> | |
| Jitter: electr. trigger – laser pulse | ns | < 0.2 | < 0.2 | < 0.2 | < 0.2 |
| Warm-up time | s | < 20 | < 20 | < 20 | < 20 |
| Control | - | <- Automode | / Software | (DLL) -> | |
| Warranty | - | <- 60M pulses | or 2 years -> | ||
| Certifications | - | <- CE, ETL, | FDA, etc. -> | ||
| Laser class | - | 3B / IIIb | 3B / IIIb | 3B / IIIb | 3B / IIIb |
제품 사양
제품 설명
MNL 100 HP 제품특징
MNL 100-HP는 337.1 nm파장대로 표준형의 콤팩트한 외형을 그대로 유지하면서 펄스 에너지(Pulse Energy)를 최대 200µJ까지 획기적으로 높인 모델입니다. 일반 모델 대비 약 1.5배 이상의 강력한 에너지를 방출하여, 높은 광자 밀도가 필요한 정밀 가공이나 고감도 분석에 최적화되었습니다. 타사의 노후된 고출력 레이저를 대체하기 위한 최적의 솔루션입니다.
- 강력한 펄스 에너지: 최대 200µJ의 에너지 출력으로 정밀 재료 가공 및 분석 지원
- 동일한 폼팩터: 표준형(MNL 100)과 크기가 동일해 장비 교체 및 업그레이드 용이
- 높은 피크 파워: 짧은 펄스(3ns) 내에 에너지를 집중시켜 열 손상 없는 어블레이션 구현
- 수명 연장 옵션: Long-Life 버전 선택 시 최대 1억 2,000만 회 이상의 펄스 수명 확보 가능
- 정밀 트리거링: 낮은 지터(Jitter) 값으로 외부 장비와의 정밀한 시간 동기화 지원
MNL 100 HP 어플리케이션
- OEM laser source
- MALDI-TOF mass spectroscopy
- Ion trap mass spectroscopy
- Laser-induced fluorescence spectroscopy (LIF)
- Fluorescence Intensity (FLINT; FI)
- Fluorescence Polarization (FP)
- Fluorescence Resonance Energy Transfer (FRET)
- Homogenous Time Resolved Fluorescence (HTRF)
- Nano-TRF
- Fluorescence Lifetime Analysis (FLA; FLT)
- Pump source for dye lasers
- Amplification of ultra-short laser pulses
- Micro LIBS
- Laser ablation
- Microstructuring
- Dissecting cells under the microscopePulsed laser Photoacoustics
- Laser optoacoustics
- Detector calibration
- Technological applications such as laser-induced bonding, hardening and cleaning
Model
| 항목 (Parameter) | 단위 | 103-HP PD | 106-HP PD | 103-HP LD | 106-HP LD |
|---|---|---|---|---|---|
| Wavelength | nm | 337.1 | 337.1 | 337.1 | 337.1 |
| Spectral bandwidth | nm | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 |
| Guaranteed pulse energy | µJ | ≥ 200 | ≥ 180 | ≥ 130 | ≥ 115 |
| Typ. pulse energy @ pulse qty | µJ @ Mio | 180 @ 100 | 160 @ 100 | 115 @ 100 | 100 @ 100 |
| Pulse halfwidth FWHM, typ. | ns | 3 | 3 | 3 | 3 |
| Pulse power, typ. | kW | 65 | 60 | 43 | 38 |
| Repetition rate | Hz | 1 … 30 | 1 … 60 | 1 … 30 | 1 … 60 |
| Energy stability SD | % | ≤ 2 | ≤ 2 | ≤ 2 | ≤ 2 |
| Beam dimensions (V x H), typ. | mm | 3 x 4 | 3 x 4 | 4 x 2.5 | 4 x 2.5 |
| Beam divergence (V x H) | mrad | ≤ 3.5 x ≤ 3 | ≤ 3.5 x ≤ 3 | ≤ 0.5 x ≤ 0.3 | ≤ 0.5 x ≤ 0.3 |
| Focus stability | µm | < 15 | < 15 | < 25 | < 25 |
| Beam exit angle (V x H), typ. | deg | 0.5(±0.2) x 0±0.1 | 0.5(±0.2) x 0±0.1 | 0±0.1 x 0±0.1 | 0±0.1 x 0±0.1 |
| Trigger In | - | <- Optical | or electrical | (TTL) -> | |
| Jitter: ext. trigger – laser pulse | ns | ± 2.5 | ± 2.5 | ± 2.5 | ± 2.5 |
| Pulse delay: ext. trigger – laser | ns | 1,300 ± 10% | 1,300 ± 10% | 1,300 ± 10% | 1,300 ± 10% |
| Sync Out (optional) | - | <- 3.5 ns | before pulse | (U > 4 V) -> | |
| Jitter: electr. trigger – laser pulse | ns | < 0.2 | < 0.2 | < 0.2 | < 0.2 |
| Warm-up time | s | < 20 | < 20 | < 20 | < 20 |
| Control | - | <- Automode | / Software | (DLL) -> | |
| Warranty | - | <- 60M pulses | or 2 years -> | ||
| Certifications | - | <- CE, ETL, | FDA, etc. -> | ||
| Laser class | - | 3B / IIIb | 3B / IIIb | 3B / IIIb | 3B / IIIb |
